摘要：针对光刻工艺模拟,首次建立了光刻胶刻蚀过程模拟的2-D动态元胞自动机（CA）模型,通过制定规则来确定模拟过程中不断更新的表面元胞,使得模拟只需要计算表面元胞的刻蚀过程.模型既有稳定性好的优点,又有运算速度快的优点.采用一些公认的光刻速率分布测试函数非常有效地模拟了光刻过程,模型在刻蚀速率变化非常大的区域也非常稳定.

关键词：元胞自动机 工艺模拟 光刻模拟 工艺模型 

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