首页 > 期刊 > 电子测试 > 193纳米微影湿浸式技术暂居较佳发展位置 【正文】
摘要:微影工艺技术在IC制造中一直扮演着举足轻重的角色,随着IC产品技术需求的提升,微影技术也需不断地提高分辨率以制作更微小的特征尺寸(feature size).
关键词:ic制造 193纳米 微影湿浸式技术 特征尺寸 极短紫外光微影
单位:
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社
相关期刊
省级期刊
¥400.00