摘要：本论文主要在DBR光栅结构的设计和制备工艺方面开展了系统地研究工作,采用MOCVD系统对1064nm半导体激光器外延结构进行生长,通过湿法腐蚀工艺制备出了3.5μm宽的脊形波导。在DBR光栅制备过程中,采用325nm全息曝光系统对脊形波导进行全息光刻,并利用ICP干法刻蚀,制备出光栅的周期结构。

关键词：半导体激光器 布拉格反射器 布拉格光栅 激光器 波导 

单位：长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室; 吉林长春130022