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GaAs光电阴极制备工艺中表面污染的微区分析

方城伟; 张益军; 荣敏敏; 钱芸生; 戴庆鑫; 石峰; 程宏昌; 拜晓峰 光子学报 2019年第09期

摘要:基于超高真空光电阴极制备与表面分析互联装置开展了反射式GaAs光电阴极激活实验,并利用扫描聚焦X射线光电子能谱对化学清洗后及Cs/O激活后的阴极表面进行了微区分析.通过X射线激发样品产生二次电子图像定位需要分析的微小区域,更加准确地检测了阴极表面存在的杂质.检测发现化学清洗后的GaAs阴极样品会受到金属压片的二次污染,出现钠、铯污染.表面分析和激活实验表明,高温加热和激活并不能去除钠污染,且此污染会影响表面砷的脱附,阻碍激活过程中Cs、O的吸附,降低阴极的光电发射性能.采用扫描聚焦X射线成像技术对阴极表面进行微区选点分析,有助于更加准确地分析阴极激活前后的表面成分变化.

关键词:gaas光电阴极扫描聚焦x射线成像技术微区分析表面污染光电发射

单位:南京理工大学电子工程与光电技术学院; 南京210094; 微光夜视技术重点实验室; 西安710065

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