摘要：在超大规模集成电路中,为了满足45nm节点光刻曝光光学系统对高分辨率的要求,设计了一种光束扩束系统,用于提高照明系统的均匀性。由于准分子激光器在水平和垂直方向上光束发散角有较大差异,从激光器到照明系统的传输光路最长达20m,垂直方向激光最大发散角达到2.1mrad,若不对出射的激光束进行准直,则激光传输20m后,激光光斑尺寸将达到54.5mm以上,这对后续的系统设计都是不利的,因而必须首先对激光器出射光束进行准直,然后再传输。通过调节X向柱面镜与Y向柱面镜之间的距离,即第一光学面(球面镜前表面)到Y方向柱面镜后表面距离调整为122.058mm时消除了这种影响,保证输出光束满足指标要求。

关键词：浸没式光刻 光束扩束 光学设计 

单位：长春理工大学光电信息学院