摘要：在制作二维光子晶格的实验基础上,通过两种带有缺陷的振幅掩膜,利用成像法在LiNbO3：Fe晶体中分别实时写入带有4个点缺陷和1个线缺陷的二维缺陷态光子晶格.实验结果显示,晶体厚度对晶格的形成有一定影响,厚度太大的晶体中不易写入理想的光子晶格.

关键词：linbo3 fe晶体 光子晶格 缺陷态 成像法 

单位：内蒙古师范大学物理与电子信息学院 内蒙古呼和浩特 010022