摘要：应用Judd-Oflet理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量Ωt（t=2，4，6），Ω2=8．15×10^-20,Ω4=1．43×10^-20,Ω6=1．22×10^-20，相比于其他氧化物玻璃，表现出较大的Ω2,6值，反映了铒离子周围的近邻结构不对称性和Er-O键的离子键成分较高．利用McCumber理论计算得到了能级4I13/2→4I15/2跃迁的受激发射截面为σc=O．51pm^2．这种高硅氧玻璃掺铒离子浓度尽管高于石英光纤的掺杂浓度10倍左右，其荧光寿命和量子效率仍达到6．0ms和66．0％，有可能成为新的光学放大和微片激光材料．

关键词：掺铒高硅氧玻璃 量子效率 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所; 上海201800; 中国科学院研究生院; 北京100080; 日本产业技术综合研究所; 大阪563-8577日本