摘要：采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量，分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响．获得了最佳的沉积工艺参数，优化了薄膜的制备工艺．结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关，当温度为750℃，碳源浓度为0．9％和压强为4．0kPa时，金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳，折射率平均值为2．385，消光系数在10^-4范围内，在红外波段具有良好的透过性.

关键词：薄膜光学 红外光学性质 工艺条件 金刚石薄膜 

单位：上海大学材料科学与工程学院; 电子信息材料系; 上海200072