摘要：采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO（001）表面上的薄膜生长过程，分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响．模拟结果表明，随着衬底温度的升高，在衬底表面上沉积的MgO分子扩散能力增强，MgO薄膜层中空位缺陷变少．低温下，分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖率；高温下，表面覆盖率随入射能增大到3．0eV时达到最大值，入射能继续增大，表面覆盖率减小．

关键词：mgo薄膜生长 分子动力学 计算机模拟 表面扩散 

单位：东北大学理学院 沈阳110004 沈阳工业大学理学院 沈阳110178