摘要：在以前工作的基础上，进一步研究了SrTiO3（001）（STO）衬底上单层FeSe超导薄膜的分子束外延生长。首先，通过去离子水刻蚀、盐酸溶液腐蚀和纯氧气氛中退火等步骤，获得台阶有序、具有单一TiO2终止的原子级平整表面的STO衬底，这是前提条件。这个过程中酸的选择和退火过程中氧的流量是最为关键的因素。其次，在FeSe薄膜的分子束外延生长中，选择适当的Fe源和Se源束流以及衬底温度是关键因素。如选择适当，生长模式为step-flow生长，这时得到的FeSe薄膜将是原子级平整的。最后一步为退火，这个过程会增强FeSe薄膜结晶性以及它与SrTiO3衬底间的结合强度。

关键词：单层fese薄膜 高温超导 分子束外延 

单位：北京邮电大学电子工程学院 北京100876 清华大学低维量子物理国家重点实验室 北京100084 中国科学院物理研究所表面物理国家重点实验室 北京100190