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C在不同位置掺杂(n,n)型BN纳米管的密度泛函研究

王艳丽 苏克和 颜红侠 王欣 物理学报 2014年第04期

摘要:用密度泛函B3LYP/3-21G(d)方法,并利用周期边界条件,研究了C原子在不同位置掺杂的(n,n)型BN纳米管的结构与性质.揭示了几何结构特征、能量、稳定性和能带结构的变化规律.研究了C原子在B位或N位置分别掺杂的BN纳米管的模型(掺杂浓度x=1/(4n),n=3—9),部分B位掺杂管发生了变形,而所有N位掺杂管则几乎不变形,而且N位比B位的掺杂能更低(管更稳定),B位掺杂管的能隙为1.054—2.411eV,N掺杂管的能隙为0.252—1.207eV,所有掺杂管都是半导体,所有掺杂管都具有直接带隙.

关键词:掺杂碳纳米管周期边界条件能带结构

单位:西北工业大学理学院应用化学系 空间应用物理与化学教育部重点实验室 西安710072

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