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Ge掺杂对InI导电性能影响的第一性原理研究

王永贞 徐朝鹏 张文秀 张欣 王倩 张磊 物理学报 2014年第23期

摘要:采用密度泛函理论框架下的第一性原理平面波超软赝势方法,在相同环境条件下对不同浓度Ge掺杂的InI导电性能进行了研究.建立了由不同浓度的Ge原子替代In原子的In1-xGexI(x=0,0.125,0.25)模型.对低温下高掺杂Ge原子的In1-xGexI半导体的优化参数、总态密度、能带结构进行了计算.结果表明:Ge的掺入使In1-xGexI材料的体积减小,总能量升高,稳定性降低;Ge原子浓度越大,进入导带的相对电子数量越多,In1-xGexI电子迁移率减小,电阻率增大,同时最小光学带隙也增大,有利于改善体系的核探测性能.

关键词:ge高掺杂ini电阻率第一性原理

单位:燕山大学信息科学与工程学院 河北省特种光纤与光纤传感重点实验室 秦皇岛066004

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