摘要：采用波长13.5 nm的极紫外光作为曝光光源的极紫外光刻技术是最有潜力的下一代光刻技术之一,它是半导体制造实现10 nm及以下节点的关键技术.获得极紫外辐射的方法中,激光等离子体光源凭借转换效率高、收集角度大、碎屑产量低等优点而被认为是最有前途的极紫外光源.本文开展了脉冲TEA-CO2激光和Nd：YAG激光辐照液滴锡靶产生极紫外辐射的实验,对极紫外辐射的谱线结构以及辐射的时空分布特性进行了研究.实验发现：与TEA-CO2激光相比,较高功率密度的Nd：YAG激光激发的极紫外辐射谱存在明显的蓝移;并且激光等离子体光源可以认为是点状光源,其极紫外辐射强度随空间角度变化近似满足Lambertian分布.

关键词：极紫外光源 均匀液滴锡靶 激光等离子体 辐射分布 

单位：华中科技大学 光学与电子信息学院 武汉430074 华中科技大学 武汉光电国家实验室 武汉430074 武汉工程大学 理学院 武汉430073