摘要：磁存储密度的持续增长会导致磁头-磁盘的间距不断减小,这样,极有可能引起磁头-磁盘接触退磁的发生,从而造成磁记录层存储数据的丢失.为了明确退磁过程中的相应作用关系,本文通过磁力显微镜的相位成像原理直接给出了磁盘退磁的定量测量方法.并且依据此方法,利用纳米划痕实验研究了磁头-磁盘接触作用力对磁记录层信息强度的影响规律.结果表明：当磁头-磁盘接触作用力超过临界退磁载荷时,磁记录层的信息强度与磁头-磁盘接触作用力之间存在减函数关系;在低接触载荷区域中,即使磁记录层表面没有划痕产生,磁盘退磁现象仍旧可能发生;对于任意磁头-磁盘接触作用力,磁盘表面的破坏区域总是会大于磁记录层的退磁区域;当磁头反复划刮磁盘的同一位置时,磁记录层的表面划痕处将出现弹性安定状态,对应地,磁记录层的信息强度会趋近于某一定值.

关键词：磁盘退磁 纳米划痕 磁力显微镜 定量分析 

单位：哈尔滨工业大学大学机电工程学院 哈尔滨150001