线上期刊服务咨询,发表咨询:400-808-1701 订阅咨询:400-808-1721

双光子过程耗散耦合腔阵列中的量子相变

熊芳 冯晓强 谭磊 物理学报 2016年第04期

摘要:基于准玻色方法,利用平均场理论解析求解了环境作用下双光子过程耦合腔阵列体系的哈密顿量,得到了体系序参量的解析表达式,并讨论了耗散对体系超(流-M)ott绝缘相变的影响.研究结果表明:双光子共振′情况下系统重铸相干的腔间耦合率临界值为ZJ/β=(ZJ/β)'_c=0.34;双光子相互作用过程比单光子过程具有更大的耗散率,系统维持长程相干状态的时间更短,而实现重铸相干的腔间耦合率的临界值更大.

关键词:双光子过程耦合腔阵列准玻色子

单位:兰州大学理论物理研究所 兰州730000

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

物理学报

北大期刊

¥2980

关注 31人评论|1人关注