摘要：W/Si多层膜反射镜在硬X射线天文望远镜中有重要应用.为减小其应力对反射镜面形和望远镜分辨率的影响,同时保证较高的反射率,采用150,175和200℃的低温退火工艺对采用磁控溅射镀制的W/Si周期多层膜进行后处理.利用掠入射X射线反射测试和样品表面面形测试对退火前后W/Si多层膜的应力和结构进行表征.结果表明,在150℃退火3 h后,多层膜1级峰反射率和膜层结构几乎没有发生变化,应力减少约27%;在175℃退火3 h后,多层膜膜层结构开始发生变化,应力减少约50%;在200℃退火3 h后,多层膜应力减小超过60%,但1级布拉格峰反射率相对下降17%,且膜层结构发生了较大变化.W,Si界面层的增大和相互扩散加剧是应力和反射率下降的主要原因.

关键词：x射线 退火 应力 

单位：同济大学精密光学工程技术研究所 同济大学物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室 上海200092