摘要：采用脉冲激光溅射方法将PZT/YBCO沉积在LaAlO3(LAO)基底上,所选择的烧结靶材分别是不掺杂的Pb(Zr0.94Ti0.06)O3和掺有2%Bi2O3的Pb(Zr0.94Ti0.06)O3.沉积这两种薄膜时所选择的工艺参数均相同.通过X射线衍射分析比较了两种薄膜的结晶状态,利用P-V曲线比较了两种薄膜的电学性质,并测量出这两种薄膜的介电常数与频率(ε-f)以及介电损耗与频率(tanδ-f)的关系曲线.

关键词：pzt 薄膜 脉冲激光溅射 x射线衍射 介电常数 

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