摘要：将红外辐射测温系统用于半导体基片表面温度测量时,系统的调焦状况将影响测温结果的准确性.对这种影响进行了理论计算.结果表明,当被测高温区面积较大时,可以允许较大的调焦范围.但在激光诱导扩散等激光微细加工工艺中,曝光区直径仅数十微米量级,对系统的调焦提出了较高的要求.计算了在可见光波段和近红外波段两种情况下系统成像物镜的焦距.当成像物镜在波长为0.546μm时的焦距为30 mm,并固定像距为196 mm时,得到在波长为1.335μm时的物距比波长为0.546μm时大1.33 mm.利用这个结果,结合在不同物距时系统对被测高温区进行扫描得到的温度分布,提出了调焦的方法.利用该方法,系统物距可调节到最佳物距为中心±0.05 mm的范围内,满足了微小面元温度测量的要求.

关键词：辐射测温系统 激光加工 表面温度测量 微细加工工艺 激光诱导扩散 

单位：电子科技大学光电信息学院; 四川; 成都; 610054