摘要：深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件，具有衍射效率高、成本低、抗损伤，能在高强度激光条件下工作等优点。给出了利用感应耦合等离子体（ICP）技术制作熔融石英深刻蚀光栅的详细过程，并在一定的优化条件下制作了一系列不同周期、开口比和深度的高质量深刻蚀石英光栅。实验得到的最大刻蚀深度为4μm，并且在600l／mm的高密度条件下得到了刻蚀深度为1．9μm的高深宽比石英光栅。光栅侧壁陡直，表面平整，没有聚合物沉积。所制作的熔融石英光栅元件在高强激光环境、光谱仪、高效滤波器和波分复用系统等领域中有非常广泛的用途。

关键词：光栅 深刻蚀 感应耦合等离子体 熔融石英 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所; 上海201800; 中国科学院研究生院; 北京100039