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紫外激光照射对硅酸铅玻璃表面结构的影响

贾宏志; 王文澄 中国激光 2006年第02期

摘要:采用四倍频的Nd:YAG脉冲激光(波长266nm,脉宽10ns,脉冲能量密度300mJ/cm^2)对PbO摩尔分数在0.3~0.66的硅酸铅玻璃体样品进行照射,并对照射前后样品的X射线光电子能谱(XPS)进行了测量。研究发现266nm激光照射前后Pb4f和Si2p的结合能没有变化,说明Pb和Si元素的价态没有发生改变;但X射线光电子能蔷图上这两个峰的高度却有明显的变化:Pb4f峰增高而Si2p峰减小,说明硅酸铅玻璃受266nm紫外激光照射后表面结构发生变化,PbO含量增大而SiO2含量减少。

关键词:材料光谱学硅酸铅玻璃x射线光电子能谱

单位:上海理工大学光学与电子信息工程学院; 上海200093; 复旦大学光科学与工程系; 上海200433

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