摘要：采用射频磁控溅射技术和热退火处理技术制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiNx薄膜（nc-Si-SiNx），薄膜厚度为200nm。由X射线衍射（XRD）谱计算得出，经800℃连续3h退火的薄膜中的Si晶粒平均尺寸为1．7nm。把纳米Si镶嵌SiNx薄膜作为可饱和吸收体插入闪光灯抽运的平凹腔Nd：YAG激光器内，实现1．06μm激光的被动锁模运转。当激光器腔长为120cm时，获得平均脉冲宽度32ps，输出能量25mJ的单脉冲序列，脉冲序列的包络时间约480ns，锁模调制深度接近100％。量子限域效应使得纳米Si的能隙宽度大于1．06μm光子能量，所以双光子饱和吸收和光生载流子的快速能量弛豫是导致纳米Si镶嵌SiNx薄膜实现1．06μm激光被动锁模的主要原因。

关键词：激光技术 纳米硅 被动锁模 双光子吸收 

单位：华侨大学信息科学与工程学院; 福建泉州362021