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沉积速率对热舟蒸发LaF3薄膜性能的影响

余华; 崔云; 申雁鸣; 齐红基; 邵建达; 范正修 中国激光 2007年第11期

摘要:用热舟蒸发方法在不同的沉积速率下制备了LaF3单层膜,并对部分单层膜进行了真空退火。分别采用X射线衍射(XRD),Lambda 900光谱仪和355nm Nd:YAG脉冲激光测试了薄膜的晶体结构、透射光谱和激光损伤阈值(LIDT),并通过透射光谱计算得到样品的折射率和消光系数。实验结果表明,增大沉积速率有利于LaF3薄膜的结晶和择优生长,可以提高薄膜的致密性和折射率,但薄膜的抗激光损伤能力有所下降;沉积速率太大,又会恶化薄膜的结晶性能,同时薄膜中产生大量孔洞,薄膜的机械强度降低,导致薄膜的折射率减小和抗激光损伤能力降低。真空退火对薄膜的抗激光损伤能力有不同程度的提高。

关键词:薄膜laf3单层膜沉积速率退火折射率

单位:中国科学院上海光学精密机械研究所; 上海201800; 中国科学院研究生院; 北京100039

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