摘要：近20年来，由于X射线光刻技术、空间技术以及激光引爆的惯性约束聚变（ICF）的过程诊断等的需求，X射线成像技术获得迅速发展。但是，由于常规的成像方法难以适应X射线波段，目前大多采用掠入射反射成像和编码孔径成像方法。KBA显微镜为掠入射非共轴X射线反射成像系统，而且四块反射镜是空间分布的，前两块反射镜和后两块反射镜之间并不是严格互相垂直的，这给像质分析带来相当大的困难。通常的光学CAD软件难于适应这种光学系统。因此设计了掠入射非共轴反射成像的KBA显微镜成像系统程序，并用该程序分析了该系统的综合误差。物距公差为-0．4～＋1mm，掠入射角公差在-8″～0，双反射镜公差在-20″～0，弥散斑的变化在允许的范围内。

关键词：x射线光学 x射线成像 kba显微镜 掠入射反射成像 消像散系统 

单位：鲁东大学物理与电子工程学院 山东烟台264025 大连理工大学电子与信息工程学院 辽宁大连116024 鲁东大学交通学院 山东烟台264025