摘要：采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2／SiO2，Y2O3／SiO2多层膜进行了400。C的退火处理，发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190～300rim范围内的峰值反射率均得到提高，说明此种后处理方法可能会改善膜层在紫外波段的光学性能。再对HfO2，Y2O3的单层膜进行相应的退火处理，发现退火后HfO2膜层的物理厚度减小从而发牛蓝移现象；直升式退火使Y2O3膜层的折射率变小引起蓝移，阶梯式退火使得Y2O3膜层的物理厚度减小引起蓝移。对退火前后样品的微结构进行X射线衙射（XRD）法测量发现，退火可以使材料进行晶化，并且采用直升式加热法后材料的结晶度更大，从而膜内散射变大，会引起膜层反射率的轻微降低。

关键词：薄膜 光学薄膜 紫外 退火 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心 上海201800