摘要：针对脉冲激光沉积（PLD）薄膜装置,建立了时间分辨等离子体发射光谱测量系统,在沉积类金刚石（DLC）薄膜时,通过对CII（426.7 nm）和CIII（229.7 nm）的发射谱测量发现,当脉冲激光轰击石墨靶材时,C发射谱强度均随时间变化,表现为由强变弱的时间变化过程,并且与靶材的表面状况有很强的相关性。实验过程中保持激光的脉冲频率和单脉冲能量不变,在石墨靶固定时,碳发射谱强度随时间呈快速下降趋势,当石墨靶旋转时,碳发射谱强度变化较为缓慢。实验发现,CIII和CII的发射谱强度的比值随时间逐渐增大。

关键词：光谱学 类金刚石薄膜 脉冲激光沉积 发射光谱 时间分辨测量 

单位：深圳大学物理科学与技术学院 广东深圳518060 广东药学院基础学院 广东广州510006