摘要：为了进一步诊断反演出基片及光学元件中杂质缺陷的形态和尺寸，应用Bobbert—Vileger（BV）理论建立两种缺陷粒子的复合光散射模型，通过对场进行矢量球谐函数展开，对基片上缺陷粒子的光散射问题展开讨论，对散射场及微分散射截面进行推导求解。同时将数值计算结果退化为球形粒子与采用扩展Mie理论方法所得结果做了比较，二者吻合较好。通过数值计算考察了不同材质下，形变对微分散射截面的影响。结果表明，金属缺陷的散射更易受形变的影响，而介质缺陷受形变的影响很小。当球缺靠近基底的情况下，微分散射截面受散射角的影响较大；球缺背离基底时，几乎和球形粒子散射曲线重合，因此通过对微分散射截面的计算可以定位反演出球缺的侍罟和材质．

关键词：光散射 微球体缺陷 bv理论 微分散射截而 

单位：西安电子科技大学理学院 陕西西安710071