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氧分压对脉冲激光沉积SrTiO3薄膜性质的影响

万晓婧 王丽 陈江博 苏雪琼 孔乐 中国激光 2011年第09期

摘要:采用脉冲激光沉积(PLD)法在不同氧分压下于LaAlO3(100)基片上成功制备了SrTiO3(STO)薄膜。通过测试,表征了薄膜的微观结构、表面形貌和光学特性。研究表明,对于利用PLD法制备STO薄膜,氧分压是重要的工艺参数。随着氧分压的降低,薄膜的结晶性变好,并发生由立方晶系到四方晶系的形变;氧分压升高,薄膜晶粒尺寸变大、数目变少,薄膜的厚度减小。薄膜在4002500nm的可见光和红外波段呈现较低的光学吸收。在5,10和15Pa氧压下制备的STO薄膜的能隙宽度分别约为3.84,4.13和4.05eV。这为STO薄膜进一步的制备与分析提供了良好的实验数据支持。

关键词:薄膜钛酸锶薄膜脉冲激光沉积微观结构光学特性

单位:北京工业大学应用数理学院 北京100124

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