摘要：采用脉冲激光沉积法（PLD）在单晶硅基底上制备了WSx固体润滑薄膜。利用X射线能谱仪（EDS）、扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）对薄膜的成分、形貌和微观结构进行了分析,采用球盘式磨损试验机在大气（相对湿度为50%～55%）环境下评价薄膜的摩擦学特性。结果表明：薄膜中S和W的原子数分数比（简称S/W比）在1.05～3.75之间可控,摩擦系数为0.1～0.2;S/W比高于2.0时薄膜成膜质量和摩擦系数显著恶化。正交试验法得出影响薄膜S/W比的因素主次顺序分别是气压、温度、靶基距和激光通量;最优工艺参数是温度150℃、靶基距45mm、激光通量5J/cm2、气压1Pa,可获得结构致密、成分接近化学计量比的WSx薄膜。

关键词：薄膜 ws2 脉冲激光沉积 固体润滑 正交试验 

单位：浙江工业大学机械工程学院 浙江杭州310014 常州大学材料科学与工程学院 江苏常州213164