摘要：采用脉冲激光沉积法（PLD）在不同激光通量下烧蚀CNx靶,在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线能谱仪（EDS）、X射线光电子谱仪（XPS）等对薄膜的形貌、化学成分和微观结构进行了表征。采用球-盘式磨损试验机在大气（相对湿度48%～54%）环境下测试了薄膜的摩擦学特性。结果表明,递进式PLD技术可显著提高CNx薄膜的含氮量。当激光通量从5.0J/cm2提高至10.0J/cm2时,薄膜含氮原子数分数由23.8%上升至29.9%,膜中N-sp2 C键的含量上升,N-sp3 C键和sp3 C-C键的含量下降,薄膜的磨损率从2.1×10-15 m3/（N.m）上升至9.0×10-15 m3/（N.m）。摩擦系数为0.15～0.23,激光通量5.0J/cm2沉积的薄膜有最佳摩擦学性能。

关键词：薄膜 氮化碳 脉冲激光沉积 摩擦与磨损 x射线光电子谱 

单位：浙江工业大学机械工程学院 浙江杭州310014 常州大学材料科学与工程学院 江苏常州213164