摘要：对用于193 nm减反射膜的基底材料和薄膜材料的光学性能进行了解析，同时对沉积技术和主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择，并在此基础上进行了193 nm大角度入射减反射膜的设计、制备及检测，实现了入射角为68°~72°范围内单面透射率大于96%，剩余反射率小于1%。同时计算了线宽压窄模块棱镜在镀膜前后的单程能量损耗，肯定了实现大角度减反射膜的必要性。

关键词：薄膜 减反射膜 p偏振态 193 nm激光 

单位：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室 吉林长春130033 中国科学院大学 北京100049