摘要：研究了磁控溅射制备Sub／NiCrNx／Ag／NiCrNx／SiNx／Air多层结构银反射镜的特性，分析了Nz对Ag薄膜、介质保护层及银反射镜光谱的影响。采用深度剖析X射线光电子能谱和透射电子显微镜分析了银反射镜短波波段（400-500nm）反射率偏低的原因。采用分光光度计、扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了N2占比对Ar／N2混合气体溅射制备单层银膜光学性质、表面形貌及晶向结构的影响，比较了不同Ar／N2比例混合气体溅射制备银反射镜的反射率，并分析了对应样品SiN。保护层的化学计量比。实验结果显示，溅射制备银膜时，在Ar中引入一定比例的N2，SiNx保护层的化学计量比得到改善。当N2体积比由0上升至40％时，Ar／N2混合气体溅射制备的银反射镜在400nm波长处反射率由71．7％提高到79．3％。此外，基于Ar／N2混合气体溅射溅射制备的银反射镜样品具备优良的环境稳定性。

关键词：薄膜 银反射镜 磁控溅射 sinx薄膜 

单位：中国科学院光电技术研究所; 四川成都610209; 中国科学院大学; 北京100049; 电子科技大学光电信息学院; 四川成都610054