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基于三维光学模型的彩色边缘场效应优化

李丹; 张宝龙; 郭海成 中国激光 2019年第07期

摘要:研究了垂直向列型彩色滤光膜硅覆液晶(VA CF-LCoS)微显示器件,并利用其三维光学模型,改变液晶器件的预倾角、像素尺寸等参数,优化了微小像素中的边缘电场效应。为进一步优化器件的性能,建立了以圆偏振光作为入射光源的微显示器件的三维光学模型。研究结果表明:当以圆偏振光作为照明光源时,VA CF-LCoS微显示器件的光学反射效率可得到大幅提升。由于采用了三维光学模型的分析方法,得到了与利用二维光学模型进行分析时完全不同的结论:优化只能使得边缘场效应导致的亮态子像素内部黑线减小,而不能彻底消除它。

关键词:光学器件彩色滤光膜硅覆液晶垂直向列型光学建模

单位:天津科技大学电子信息与自动化学院; 天津300222; 香港科技大学先进显示与光电子技术国家重点实验室; 香港999077

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