摘要：研究了化学镀Ni-W-P-SiC复合镀层的孔隙率.结果表明,镀液温度和施镀时间对镀层孔隙率的影响较大,在镀液T=80℃、施镀时间t=2.5h时所得镀层的孔隙率较小;热处理温度和时间对镀层孔隙率有一定影响,热处理温度为400℃,时间为3h时,镀层孔隙率最小.

关键词：化学镀 复合镀层 孔隙率 

单位：西南科技大学材料学院; 四川; 绵阳; 621002