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专利名称:多离子束共溅射淀积纳米膜装置

雷卫武 表面技术 2005年第04期

摘要:本发明提供一种具有单离子束和双离子束以及多离子束溅射淀积,能产生单质、二组元、三组元、四组元成分,原位反应共溅射淀积纳米膜(含微米膜)的、

关键词:多离子束纳米膜共溅射淀积专利名称

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