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专利名称:高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备

甘国工 表面技术 2005年第04期

摘要:本实用新型提供了一种高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备。包括依次连接的前锁定室,前等待室,过渡室。金属膜工作室,含氩气进口和氧气进口的介质膜工作室,

关键词:磁控溅射镀膜生产设备高反射镜专利名称实用新型

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