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脉冲占空比对纯铝微弧氧化膜的影响

翁海峰; 陈秋龙; 蔡珣; 鲍明东 表面技术 2005年第05期

摘要:为研究交流脉冲电源占空比的变化对纯铝微弧氧化的影响,设计了在恒流条件下(J=75mA·cm-2)进行从2%到18%不同占空比下对纯铝进行微弧氧化实验.研究发现,陶瓷膜的主要成分为稳定态的α-Al2O3和亚稳态的γ-Al2O3,随着占空比的提高,α-Al2O3逐渐成为氧化膜的主要成分,而氧化膜的表面则越来越粗糙.当占空比为10%时,得到最大的氧化膜厚度和最佳的氧化膜截面形貌.

关键词:微弧氧化脉冲占空比氧化膜

单位:上海交通大学; 上海; 200030

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