摘要：本实用新型涉及利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置．该装置在已有的镀膜设备中安装至少一套蒸发靶组件：该蒸发靶组件由一设置在基片加热器下方的支撑架，其上固定一对蒸积出来的靶材进行导流作用的靶管，该支撑架固定在真空室内壁上；真空室底座上设置一水冷电极固定架，水冷管缠绕在水冷电极固定架上，水冷管两端引出真空室外与水冷系统连通；用金属靶材制成的板状加热片，它同时又是蒸发靶安装在和水冷电极上，该板状加热片安装位置与靶管垂直相对；

关键词：直接加热 蒸发 靶材 装置 专利名称 

单位：中国科学院物理研究所