摘要:采用乙醛酸代替有害的化学药品甲醛作为还原剂的化学镀技术:在TiN阻挡层实现了化学镀铜。研究了不用贵重金属钯催化,而是采用NH4F酸性化学镀方法在TiN/Ti/SiO2/Si基板上沉积一层铜种子层,然后在此铜种子层上采用乙醛酸化学镀方法沉积铜膜的方法。用SEM观察镀层形貌,XRD表征镀层结晶状态,证实此方法能够制备出超大规模集成电路铜互连线。试验分析并探讨了pH值、铜离子浓度、乙醛酸浓度、EDTA浓度、联吡啶浓度、镀液温度对化学镀速度和镀铜层效果的影响,得到了制备超大规模集成电路铜互连线的最优化学镀溶液成分。
关键词:乙醛酸 化学镀铜 种子层 铜互连线 化学镀镀液
单位:中国矿业大学化学与环境工程学院; 北京100083; 清华大学材料科学与工程系; 北京100084
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