摘要：为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件，引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光。介绍了有关等离子体刻蚀的研究进展以及去除机理，在已经设计好的实验平台上进行等离子体加工工艺实验，对影响去除效果的参数进行了实验研究，最后进行工艺参数优化。结果表明此技术能够应用于对光学元件的加工。

关键词：超光滑表面 等离子体抛光 电容耦合放电 表面粗糙度 去除速率 

单位：西安工业大学薄膜技术与光学检测重点实验室 陕西西安710032