摘要：为了制备光学性能良好的AlN薄膜。采用磁控反应溅射法制备了氮化铝（AlN）薄膜，利用椭圆仪、分光光度计、傅立叶变换光谱仪对AlN薄膜进行了相关光学性能的分析。结果表明：在波长为400～1100rim时，AlN薄膜的折射率为2．0～2．4，透过率都在88％以上；在200～300nm远紫外光范围内，薄膜具有强烈的吸收；在红外吸收光谱中，677cm。处存在1个强烈的吸收峰，说明薄膜中已经形成了AlN。

关键词：氮化铝薄膜 折射率 透过率 红外光谱 磁控反应溅射法 

单位：西安工业大学光电工程学院 陕西西安710032