线上期刊服务咨询,发表咨询:400-808-1701 订阅咨询:400-808-1721

薄膜形成装置的洗净方法

表面技术 2008年第02期

摘要:热处理装置的洗净处理包括将反应室内加热到300℃的加热工序和去除附着在热处理装置内部的氮化硅的洗净工序。在洗净工序中,将含有氟气和氯气及氮气的清洗气体供给加热到300℃反应管内,去除氮化硅而洗净热处理装置的内部。

关键词:热处理装置洗净膜形成内加热氮化硅

单位:日本东京毅力科创株式会社

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

表面技术

北大期刊

¥536.00

关注 27人评论|0人关注