首页 > 期刊 > 表面技术 > 薄膜形成装置的洗净方法 【正文】
摘要:热处理装置的洗净处理包括将反应室内加热到300℃的加热工序和去除附着在热处理装置内部的氮化硅的洗净工序。在洗净工序中,将含有氟气和氯气及氮气的清洗气体供给加热到300℃反应管内,去除氮化硅而洗净热处理装置的内部。
关键词:热处理装置 洗净 膜形成 内加热 氮化硅
单位:日本东京毅力科创株式会社
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