摘要：一种真空成膜装置用部件，具有部件本体和形成于所述部件本体表面的喷镀膜。喷镀膜具有局部峰顶平均间隔5为50—150μm范围、最大谷深尺。和最大峰高Rp分别为20～70μm范围的表面粗糙度。喷镀膜具有从维氏硬度HV30以下的Al系喷镀膜、维氏硬度HV100以下的Cu系喷镀膜、维氏硬度HV200以下的Ni系喷镀膜、维氏硬度HV300以下的Ti系喷镀膜、维氏硬度HV300以下的Mo系喷镀膜和维氏硬度HV500以下的W系喷镀膜中选择的低硬度覆膜。

关键词：成膜装置 部件 真空 维氏硬度 表面粗糙度 

单位：东芝株式会社