摘要：为制备光学性能良好的TiO2薄膜。采用离子束溅射（IBS）的方法，改变退火温度，在Si基底上制备氧化钛（TiO2）薄膜。利用XRD、SPS、SEM测试薄膜的成分、结晶形式和表面形貌，椭圆偏振光谱仪分析薄膜折射率和消光系数。试验结果发现：随退火温度的增加，薄膜由锐钛矿相变为金红石相，400℃薄膜结晶为锐钛矿相TiO2，1100℃退火后，薄膜结晶为金红石相TiO2；退火温度升高使薄膜折射率和消光系数随之升高。由此可得，800℃退火时，TiO2薄膜具有最佳光学性能。

关键词：tio2 退火温度 结晶 光学性能 薄膜 

单位：西安工业大学光电工程学院 陕西西安710032