摘要：为了研究在磁控溅射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情况下，氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影响，通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行。结果表明：工作压强达到1．1Pa后，Ti膜的厚度及均方根粗糙度都随压强的增大而减小。由此说明，工作压强的变化对钛膜沉积有较大影响。

关键词：ti膜 磁控溅射 工作压强 均方根粗糙度 

单位：西华大学材料科学与工程学院 四川成都610039 四川理工学院 四川自贡643000