摘要：利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了高度C轴择优取向的纳米ZnO薄膜，采用扫描电子显微镜、电子能谱仪和X射线衍射分析仪研究了溅射过程中和热处理过程中氧气对ZnO薄膜形貌、成分以及结构的影响规律。结果表明：在溅射过程中和退火过程中通入适量的氧气，ZnO薄膜（002）衍射面的晶面间距变小，薄膜中的氧含量提高，薄膜中的缺陷减少。在空气气氛中退火2h的薄膜，质量几乎接近了在溅射过程中通入氧气所制得的样品。因此在溅射制备ZnO薄膜时，可以减少氧气用量甚至无需通入氧气．而在热处理过程中实现增氧．从而降低了制备成本．简化了薄膜的制备工艺。

关键词：zno薄膜 xrd 氧气 退火 

单位：徐州空军学院 江苏徐州221008