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反应磁控溅射碳化铪薄膜的微结构与力学性能

许辉 祝新发 张晶晶 周颐辛 李冠群 李戈扬 表面技术 2010年第01期

摘要:为满足不同加工方式和加工条件下刀具对涂层的特殊要求,获得硬度高和耐摩擦性能优异的刀具涂层,采用反应磁控溅射方法制备了一系列不同碳含量的碳化铪薄膜。利用EDX,XRD,SEM,AFM和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了C2H2分压(Ar和C2H2混合气体)对薄膜成分、相组成、微结构以及硬度和弹性模量的影响。结果表明,反应磁控溅射可以方便地制备碳化铪薄膜,但是,只有在C2H2分压为混合气体总压约3.0%附近很窄的范围内才可获得高硬度和高弹性模量的单相碳化铪薄膜,其最高硬度和弹性模量分别为27.9GPa和255GPa;低C2H2分压下所得薄膜由金属Hf和HfC两相组成,硬度较低;而过高的C2H2分压将导致薄膜形成非晶态,其硬度和弹性模量亦随之降低。

关键词:碳化铪硬质薄膜微结构力学性能磁控溅射

单位:上海工具厂有限公司机械工业工具涂层技术重点实验室 上海200093 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室 上海200030

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