摘要：为提高石英玻璃表面金属化膜层与基底的结合强度，利用金属蒸发真空弧（MEVVA）离子源引出的Ti离子对石英玻璃及镀Ti膜石英玻璃进行离子注入，剂量选择3×10^16，5×10^16ion／cm^2，模拟分析了注入离子能量的分布，采用卢瑟福背散射分析了注入Ti离子在基体中的深度分布，利用划痕实验机对比了镀Ti膜石英玻璃经Ti离子注入前后的膜基结合强度。实验结果表明：石英玻璃经Ti离子（5×10^16ion／cm^2）注入后，钛在基体中呈高斯分布，最大浓度分布在15～35nm范围内；镀Ti膜石英玻璃经Ti离子（5×10^16ion／cm^2）注入后，最大浓度分布在5～15nm范围内，注入离子穿透薄膜进入基材内部。Ti离子注入剂量为5×10^16ion／cm^2时，膜基的结合强度比耒注入样品提高了90％。

关键词：ti离子 离子注入 镀ti膜石英玻璃 结合强度 

单位：上海光机所 上海201800 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 大连116024