摘要：采用磁控溅射离子镀技术制备了类石墨镀层（GLC），利用扫描电子显微镜（SEM）测量了镀层的厚度、X射线衍射仪（XRD）研究了材料的物相和应力，并结合透射电子显微镜（TEM）观察和分析了材料的组织结构。研究结果表明：不同偏压下得到的镀层结构相同，均为非晶为主的类石墨镀层，并且随着偏压增大，膜厚逐渐减小；在所研究的偏压下，应力变化规律是随着偏压的增加，样品与基体的复合应力先增大，后减小，其中～65V时达到最大值。

关键词：glc薄膜 薄膜应力 偏压 

单位：西安理工大学 西安710048