线上期刊服务咨询,发表咨询:400-808-1701 订阅咨询:400-808-1721

硅片表面制备Ni_(68)Co_(24)P_8化学镀层及其性能研究

张含卓 孙宝珠 钟耀东 方亮 表面技术 2012年第04期

摘要:在p型〈100〉单晶硅表面制备了Ni68Co24P8化学镀层,分析了镀层的显微结构、耐蚀性及磁学性质。结果表明:Ni68Co24P8镀层为非晶结构,表面均匀分布着直径约为0.5~4.2μm的球状团簇;在10.0%NaOH溶液和3.5%NaCl溶液中,镀层表现出活化—钝化—过钝化的腐蚀行为,而在1.0%H2SO4溶液中,镀层表面无法形成钝化膜,耐蚀性大幅下降;室温下,Ni68Co24P8镀层呈典型的软磁特征,饱和磁化强度为33.4A.m2/kg。

关键词:化学镀显微结构腐蚀磁性

单位:中国矿业大学机电工程学院

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

表面技术

北大期刊

¥536.00

关注 27人评论|0人关注