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磁控溅射沉积V-Al-N涂层的结构和性能研究

朱萍 葛芳芳 李胜祗 黄峰 表面技术 2012年第04期

摘要:通过反应磁控溅射法制备了V1-xAlxN(0≤x≤0.67)涂层,研究了Al含量对涂层微观结构、力学性能及摩擦磨损性能的影响。结果表明:在0≤x≤0.51范围内,随Al含量的增加,V1-xAlxN涂层的微观结构不断变得致密,硬度不断提高,其中结构最为致密的V0.49Al0.51N涂层的硬度较VN提高了近3倍;在较宽的成分区间内,V1-xAlxN涂层结构均比较致密,硬度大于30GPa,最高硬度达到41GPa;随着硬度的改善,V1-xAlxN涂层的摩擦磨损性能较VN涂层也有不同程度的提高。

关键词:反应磁控溅射微结构摩擦磨损

单位:安徽工业大学 马鞍山243002 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波315201

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